| 品牌 | 纖華 |
|---|---|
| 產品等級 | 高純級 |
| 品名 | 三氧化二鋁 |
| 外觀 | 白色 |
| 執行質量標準 | 國標 |
| 含量 | 99.99％ |
| 型號 | Al2O3 |
| 廠家(產地) | 北京 |
氧化鋁靶
化學符號：Al2O3
純度：5N
規格：Φ50.8*5、Φ76.2、Φ101.6其他規格可定做！
分 子 量：101.96
密 度：4g/cm3
熔 點：2045℃
沸 點：2980℃
蒸發溫度：1800℃
蒸發方式：電子束
透明范圍/nm：200-7000
折射率n（波長/nm）：1.59(600)/1.56(1600)
基片溫度為300℃時，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；
基片溫度為40℃時， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；
蒸發源材料:W 、Mo
溶 解 于：純酸、堿
薄膜的機械和化學性質：形成光滑的硬膜
性 能：高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高強度、抗磨損、抗氧化、絕緣性好和表面積大等特點；不溶于水，微溶于強酸和強堿溶液，并能被**和**氫鉀浸蝕；
高純超細氧化鋁的優點：純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結；
應 用：增透膜，多層膜，防反膜，眼鏡膜，保護膜
用 途：廣泛應用于生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、集成電路芯片、航空光源器件、濕敏性傳感器及紅外吸收材料；
Al2O3膜的主要性能：
密 度/g•cm-3:3.1-4.0
電 阻 率/Ω•cm：1012-1013
折 射 率：1.72-1.76
禁帶寬度eV：7
介電常數：7.5-9.6
產生龜裂厚度/μm:0.4
介電強度/V•cm-1:1×106-7×106
表面負電荷密度：3×1011-1012
紅外吸收峰/μm:14-16
Al2O3-Si界面密度/（cm2•eV）-1: 1010-1011
注：規格可根據客戶需求定做！
